眾所周知,對于電子光學行業(yè)也就是生活中常見的半導體設備加工時用到的集成電路芯片、電子試劑用水、電子管涂敷配液用水、封裝用水、液晶顯示器屏面清洗用水、光學鏡片清洗用水、微電子工業(yè)、微電子工業(yè)以及各種電子器件的生產(chǎn)用水對于水質(zhì)的要求極高,本文一起來了解一下關于:電子光學用的edi超純水設備。
電子光學用的edi超純水設備采用的是電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體的連續(xù)電除鹽技術(shù),其工作的原理是通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,實現(xiàn)水中離子的定向遷移,最后達到水的深度凈化除鹽。
離子交換樹通過水電解是可以實現(xiàn)連續(xù)再生,在水電解的過程中產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生,而且在設備制水的整個過程中都是不需要加入任何的堿、酸化學藥品再生。
電子光學用的edi超純水設備的出水水質(zhì)需達到:
1、企業(yè)的對于設備的出水水質(zhì)要求;
2、電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規(guī)范(GB50062-1992);
3、工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規(guī)范(GBJ65-1983);
4、ZBG98020-90《水處理設備系列型譜》;
5、GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時間;
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